価値創出の基盤

社会に価値を提供し続けるための当社グループの原動力であり、継続して強化する重要な基盤は、「人材」「テクノロジー」「パートナーシップ」の3つから構成されます。

人材

拡大・高度化・多様化する市場ニーズにタイムリーに対応するためにも、人材はキオクシアグループの重要な経営資本です。先端技術を担うハイレベルな人材を採用・育成し、多様な人材が活躍できる仕組みづくりを推進します。

採用活動の取り組み

メモリ・SSD製品の用途の広がりや技術の高度化、ニーズの高まりに対応するため、多様な人材の採用に注力しています。

新卒採用数*1(事務系・技術系) 実績*2(キオクシア株式会社)

2019年度

2020年度

2021年度

2022年度

280人 

207人 

298人 

303人 

  1. 大卒・大学院卒
  2. 各年度4月1日入社

キオクシアグループでは多様な従業員がそれぞれの能力を発揮して活躍できるよう、公正な人事諸制度を構築するとともに、人材の育成・活用に力を注いでいます。

多様な専門性を持つ人材の採用

キオクシアグループでは、高度な専門性を持つ人材を採用し、一人ひとりが力を発揮できるように、キャリア採用の強化、育成の仕組みづくりなどを進めています。

キャリア採用数 実績(キオクシア株式会社)

2019年度

2020年度

2021年度

113人

275人

280人

多様な個性を持つ従業員がそれぞれの力を十分に発揮するよう、キオクシアグループはダイバーシティ(多様性)を推進しています。

テクノロジー

半導体メモリにおけるテクノロジーリーダーシップを堅持し、将来を⾒据えた研究・技術開発を推進します。

研究・技術開発の基本的な考え⽅

キオクシアグループは、「記憶」のテクノロジーリーダーとして、事業ポートフォリオを拡⼤し続けるために、最先端の研究開発に取り組んでいます。

キオクシアグループの環境認識は次の3つです。デジタル技術の発展によるニーズの高度化・多様化、市場拡大に伴う技術者の人材獲得・スキル強化の必要性、半導体メモリ分野における技術開発の難化・競争の激化。これらを受けて、次の3つに取り組みます。1.「継続的な研究開発投資」:将来を見据えて、成長分野に注力した研究開発投資を継続します。2.「ハイレベルな技術者の採用・育成」:最先端技術開発を担うハイレベルな人材を獲得し、多様な人材が活躍できる仕組みをつくります。3.「パートナーとの連携」:さまざまな分野の研究開発パートナーの皆さまとシナジーを生み出し、共に社会に価値を創造していきます。キオクシアグループは、「記憶」のテクノロジーをリードする先端技術を創出し、既存領域、新規領域で市場ニーズに応え、ビジネスチャンスを拡大し、テクノロジーリーダーシップを堅持します。 キオクシアグループの環境認識は次の3つです。デジタル技術の発展によるニーズの高度化・多様化、市場拡大に伴う技術者の人材獲得・スキル強化の必要性、半導体メモリ分野における技術開発の難化・競争の激化。これらを受けて、次の3つに取り組みます。1.「継続的な研究開発投資」:将来を見据えて、成長分野に注力した研究開発投資を継続します。2.「ハイレベルな技術者の採用・育成」:最先端技術開発を担うハイレベルな人材を獲得し、多様な人材が活躍できる仕組みをつくります。3.「パートナーとの連携」:さまざまな分野の研究開発パートナーの皆さまとシナジーを生み出し、共に社会に価値を創造していきます。キオクシアグループは、「記憶」のテクノロジーをリードする先端技術を創出し、既存領域、新規領域で市場ニーズに応え、ビジネスチャンスを拡大し、テクノロジーリーダーシップを堅持します。

研究・技術開発の強化

フラッシュメモリ、SSDの研究・技術開発を強化し、新たな価値を提供する「記憶」技術の創造を⽬指し、横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区)に技術開発新棟(仮称)を建設するほか、横浜市神奈川区にクリーンルームを備えた研究開発拠点(新⼦安研究拠点(仮称))を2023年に新設します。両施設の稼働により、横浜市・川崎市内に分散していた部⾨を集結させ、効率化、コラボレーションの活性化によりイノベーションの創出につなげ、研究・技術開発を強化します。
今後も市場成⻑が⾒込まれるフラッシュメモリ、SSDの研究・技術開発を強化するとともに、新規メモリをはじめとする⾰新的な技術・製品の創出を⽬指します。

研究開発パートナーとの連携

変化の激しい競争環境のもと、多様な分野においてタイムリーに先端研究開発を⾏うためには、常にさまざまな分野で最先端の知⾒を持つことが必要です。キオクシアグループは、国内外の研究開発パートナー(技術団体、大学、研究機関)との連携を図ることで、幅広い知⾒、アイデアを取り⼊れ、さらなる製品・技術の進化を実現しています。
また、キオクシアグループは、パートナーとの研究開発連携だけでなく、オープンイノベーションを通じた人材交流を積極的に行っています。
国内では、次の3つの枠組みがあります。

  • 奨励研究:国内の学術研究機関の研究者を対象に、半導体を含む幅広い分野での研究を助成する。
  • 共同研究:高度な技術理解のもと、事業の課題解決を図る。
  • 包括連携:研究に加えて、次世代の研究者育成も目的とする。

また、海外においても、複数の大学や研究機関と連携しています。

2021年度の主な活動実績

国内においては、奨励研究では情報処理、AI関連技術をはじめ、ビッグデータ、アプリケーション、セキュリティ、半導体回路設計・デバイス・製造・プロセス・シミュレーション技術・半導体製造におけるカーボンニュートラル環境技術などの分野で公募を行い、21件を採択、実施しました。
また、共同研究では国内学術研究機関と研究活動を継続実施、包括連携では電気通信大学、早稲田大学理工学術院総合研究所との連携活動を継続し、研究および交流会を実施しました。
海外においては、米国・マサチューセッツ工科大学メディアラボなどとの研究を継続実施しています。

研究・技術開発実績

キオクシアグループは、常に最先端の技術開発に取り組むとともに、主要学会や論⽂での発表を⾏っており、⾼い評価を受けています。

2021年度の主な活動実績

⾼密度3次元フラッシュメモリへの先駆的かつ持続的貢献
3次元フラッシュメモリ「BiCS FLASH™」で長年にわたり研究・技術開発をリードしてきた功績が評価されました。

半導体フラッシュメモリ長寿命化技術の発明
フラッシュメモリのデータ消去間隔を長くすることで、寿命を延ばすことを可能にしたメモリシステムで、令和3年度全国発明表彰を受賞しました。

極低温動作による3Dフラッシュメモリの6bit/cell動作の検討
3次元フラッシュメモリ「BiCS FLASH™」の極低温動作を調査し、ストレージ性能の向上を世界で初めて報告しました。

マンガのあらすじである「プロット」と「キャラクターの顔」をAI技術を活用して生成し、新作マンガを完成させたことが人工知能を創造的作業に活用した事例として高く評価されました。

Topic:知的財産創出の取り組み

2022年2月23日、キオクシア株式会社は「Clarivate Top 100 グローバル・イノベーター2022」を初受賞しました。この賞は、信頼性の⾼い情報と知⾒を提供する世界的リーディングカンパニーであるクラリベイト社が独⾃に知財・特許動向を分析し、世界で最も⾰新的な企業・機関100社を選出するものです。⽇本企業では総合電機メーカーなど、当社を含む35社が受賞しました。

キオクシアグループは自社の知的財産を無形財産として適切に保護し、活用するとともに、第三者の正当な知的財産権を尊重します。

今後も知的財産の保護と活用を進め、事業の競争力強化に向けた取り組みを積極的に展開していきます。

パートナーシップ

お客様をはじめとするパートナーの皆さまと強固な関係を構築し、共に持続的な成長を目指していきます。

パートナーとの共創

キオクシアグループは、社会ニーズを先取りした製品・サービスを実現するため、お客様・研究機関・調達取引先の皆さまとのパートナーシップを構築し、これらのパートナーの皆さまとの連携で、シナジーを生み、共に社会に価値を創造していくことを目指しています。

キオクシアグループは、パートナーの皆さまとの連携で、シナジーを生み、共に社会に価値を創造します。お客様、研究開発パートナー、サプライヤーと連携し、強固な関係を構築することで、社会ニーズを先取りした製品・サービスの実現に貢献します。

お客様

キオクシアグループは、社会に対して新たな価値を提供する世界各地のお客様のために、常にニーズを先取りし、迅速に課題に対応するためのグローバルな営業・技術サポート・サプライチェーン体制を構築しています。

研究開発パートナー

キオクシアグループでは、幅広く最先端の知見やアイデアを取り入れ、さらなる製品・技術の進化を実現するため、技術団体や大学、研究機関など国内外の研究開発パートナーと連携しています。

サプライヤー

キオクシアグループは、サプライヤーの皆さまとの共創により、高品質な製品を安定的に供給していくとともに、新しい製造技術などを生み出すことで、競争力の強化を図ります。

2021年度の主な活動実績

お客様

2021年度においても、お客様とは、四半期ごとの定期ビジネスレビューなどの機会を通じて対話を継続してきました。お客様の事業拡大に向けて、どのようなサポートができるか、また製品やサービスのみならず、お客様のサプライチェーンの一環としてのサステナビリティ対応も含めたパートナーシップについてのご意見、要望事項をお聞きし、改善に努めています。

研究開発パートナー

研究開発パートナーとの連携

サプライヤー

NILによる超微細半導体の省エネルギー加工技術
キオクシアグループは、半導体製造の省エネルギー化や生産性向上のために、パートナーの皆さまと共に技術開発に取り組んでいます。
2022年5月、キヤノン株式会社、大日本印刷株式会社、キオクシア株式会社による「NIL(ナノインプリントリソグラフィ)による超微細半導体の省エネルギー加工技術」が、第49回 環境賞(国立研究開発法人国立環境研究所・日刊工業新聞社主催、環境省後援)において「優良賞」を受賞しました。

サプライヤーの皆さまとの相互理解

キオクシアグループでは、サプライヤーの皆さまに事業戦略をご理解いただき、共に発展を目指すために相互理解の機会を設けています。
例えば、設備メーカーとは定期的に省エネルギー実現や生産性向上に向けた意見交換を行っています。